## 要約
中国の科学者たちは、先端的な半導体チップを生産するためのプロトタイプ機械を深圳の高セキュリティラボで開発しました。この機械は、米国が長年阻止しようとしてきたもので、AIやスマートフォン、そして西側の軍事優位性に必要な技術を支えています。プロトタイプは2025年初めに完成し、現在テスト中です。オランダの半導体企業ASMLの元エンジニアたちが逆設計を行い、極紫外線リソグラフィー（EUV）機械を製作しました。
このプロジェクトは、中国が技術冷戦の中で西側に対抗するための重要な一歩です。EUV機械は、シリコンウェハ上に人間の髪の毛よりも数千倍薄い回路を刻む技術であり、これを制することは半導体産業の競争において決定的な優位性を意味します。
読者が知っておくべきポイントは、このプロジェクトが中国の半導体産業の独立性を高め、西側諸国との技術競争を激化させる可能性があることです。また、この技術がAIや軍事技術の発展に与える影響も注視すべきです。
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## 編集部コメント
AIの進化は私たちの働き方や創造性に新しい可能性をもたらしています。この動向がどのように発展していくか、引き続き注目していきましょう。
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**元記事**: [https://www.japantimes.co.jp/business/2025/12/18/tech/china-west-ai-chips/](https://www.japantimes.co.jp/business/2025/12/18/tech/china-west-ai-chips/)
**公開日**: Thu, 18 Dec 2025 18:55:34 +0000
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*この記事はAIアシスト編集により作成されています。*
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